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先進(jìn)封裝之面板芯片級封裝(PLCSP)技術(shù)介紹與芯片封裝清洗概述

發(fā)布日期:2023-06-20 發(fā)布者:合明科技 瀏覽次數(shù):7792
PLCSP是一種將面板級封裝(PLP)和芯片尺寸封裝(CSP)合為一體的封裝技術(shù)。芯片尺寸封裝(CSP)是指整個package的面積相比于silicon總面積不超過120%的封裝技術(shù)。 

相對于晶圓級封裝,面板級封裝是一種更高效的封裝技術(shù)。這得益于兩大優(yōu)勢:面積利用率比晶圓級封裝高以及面板通常面積比晶圓面積大得多。由于晶圓的圓形和芯片的矩形不一致,取決于芯片的大小,通常在封裝過程中硅晶圓面積浪費(fèi)掉10-20%。而面板本身是矩形的,所以可以大大減少邊角料的浪費(fèi)。另外,常見的面板有18寸乘24寸,20寸乘 20寸,510 mm乘515 mm,600 mm乘600 mm,甚至700 mm乘700 mm等等,是晶圓面積的3-7倍。一個面板上可以放置多個晶圓。

今天我們來介紹PLCSP(Panel Level Chip Scale Packaging)。

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圖一:(a)面板級和晶圓級面積利用率對比; (b)面板級和晶圓級單個芯片制造成本對比

然而,目前無論中國市場還是全球,面板級封裝的市場規(guī)模都只有晶圓級封裝的一個零頭。筆者在這里羅列其中的主要原因:
1. 面板級封裝行業(yè)缺乏統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn),比如各個面板級封測廠所用的面板尺寸本身五花八門,不像晶圓級封裝那樣統(tǒng)一
2. 面板級封裝的設(shè)備和材料與晶圓級封裝相比不夠成熟,晶圓級封裝的時間積累要遠(yuǎn)比面板級封裝深厚
3. 目前面板級工藝需要進(jìn)一步提升,尤其是要提高高端(線距線寬5微米以下的)的封裝良品率。目前很多基于基板和顯示屏的設(shè)備無法完全滿足
相比于晶圓級封裝,面板級封裝潛在的低成本優(yōu)勢目前還停留在紙面上。隨著整個產(chǎn)業(yè)鏈的不斷完善,筆者相信面板級封裝的高效生產(chǎn)能會得到體現(xiàn),將會在相當(dāng)?shù)念I(lǐng)域來替代晶圓級封裝,以及部分傳統(tǒng)封裝。   
接下來我們分別討論無保護(hù)和有保護(hù)的PLCSP。類似無保護(hù)的WLCSP,我們不會將晶圓切割成一個個單芯片。為了更好地利用面板的面積,我們將部分晶圓切成一半或者四份。如圖二所示,我們用一個20寸乘20寸的面板作為例子,將一個整晶圓和兩個半晶圓和一個四分之一晶圓用貼片的方式貼在面板載板上。相比于有保護(hù)的WLCSP, 無保護(hù)的PLCSP多了面板準(zhǔn)備這一流程。一般的工藝步驟是首先層壓雙面熱離型膠帶面板載板上。然后將另一個有相應(yīng)空腔的PCB面板并用膠帶固定在面板載板上。然后將未切割和部分切割的晶圓放進(jìn)PCB面板上相應(yīng)的空腔中,并由膠固定在載板上。接下去的流程步驟跟無保護(hù)的WLCSP類似:敷上ABF介質(zhì)層、激光鉆孔、種子層沉積,干膜,激光直接成像(LDI)和顯影,電鍍銅,種子層蝕刻,焊盤表面處理和植球,切割成單獨(dú)的芯片。

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圖二:一個整晶圓和兩個半晶圓和一個四分之一晶圓貼在一個20寸乘20寸的面板

以下為無保護(hù)PLCSP的主要工藝流程:
  1. a.面板載板清洗,面板可以是金屬的,也可以是玻璃或其他材料;

  2. b.在面板載板上貼上雙面熱離型膠膜,我們也可以考慮光解鍵合膠,其相應(yīng)地載板材料通常是可以通光的玻璃載板;

  3. c.在另一個面板模具(通常是PCB面板)上制作相應(yīng)的空腔。如圖二所示,我們需要一個300毫米的全圓,兩個半圓和一個四分之一圓。這個模具通常是用激光來加工的;

  4. d.將帶空腔的面板模具粘到連接到面板載板上;

  5. e.將未切割和切割好的晶圓放進(jìn)模具的空腔中,并由step b中的雙面膠固定;

  6. f.在整個面板上層壓ABF介質(zhì)層,通常ABF的厚度在15-50微米。它的功能就像常用的聚酰亞胺一樣,但是ABF的成本要遠(yuǎn)低于聚酰亞胺。然而,基于ABF的重布層的線距線寬會遠(yuǎn)大于聚酰亞胺所能提供的;

  7. g.在ABF介質(zhì)層上激光鉆通孔。常用的激光器有二氧化碳激光,UV激光器。光束頂部通孔的典型直徑為50-100微米,由于via側(cè)壁存在taper angle底部孔直接要比ABF上表面開口要小些;

  8. h.Desmear去污,同時使得ABF表面更加粗糙來增加金屬層的粘附力;

  9. i.通常是化學(xué)鍍種子層銅,在特殊情況下我們也可以用PVD物理氣相沉積來形成種子層;

  10. j.光刻膠涂敷,由于面板的矩形,spin coating很少被用到。常用的方法有薄膜壓層,液體光刻膠的slit coating and spray coating,干膜光刻膠是最常用的材料;

  11. k.通過曝光顯影等來定義金屬層結(jié)構(gòu),我們可以用LDI激光直寫的方式或者用掩模版stepper方法;

  12. l.在光刻膠開口處電鍍銅,也可以根據(jù)需要來電鍍鎳鈀金;

  13. m.剝離光刻膠;

  14. n.蝕刻掉鈦銅種子層;

  15. o.根據(jù)需要,可以重復(fù)step g至n來增加buildup layer數(shù)量;

  16. p.在整個晶片上濺射鈦銅種子層;

  17. q.在表面介質(zhì)層,通常solder resist,也可以是PI等材料;

  18. r.在表面介質(zhì)層使用激光打孔或者曝光顯影等方式在bump pads處開口;

  19. s.形成種子層;

  20. t.涂上光刻膠和掩模,然后用光刻技術(shù)打開凸點(diǎn)焊盤上的通孔以暴露帶有 UBM 的區(qū)域;

  21. u.電鍍銅芯;

  22. v.電鍍焊料,通常是SnAg等材料。也可以使用直接植球的方式;

  23. w.剝離光刻膠;

  24. x.蝕刻掉鈦銅種子層;

  25. y.涂抹助焊劑并回流焊料;

  26. z.從載板上debond所有的晶圓;

aa.使用晶圓級設(shè)備進(jìn)行die singulation;


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無保護(hù)的PLCSP的主要制造流程步驟

正如我們在之前提到無保護(hù)的WLCSP的可靠性稍差。如圖五威布爾圖形所示,在特定的測試條件下有保護(hù)的PLCSP的可靠性要比無保護(hù)的PLCSP好上3倍左右。

PLCSP 芯片封裝基板的助焊劑清洗:

半導(dǎo)體芯片封裝過程中通常會使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料,這些輔料在焊接過程或多或少都會有部分殘留物,還包括制程中沾污的指印、汗液、角質(zhì)和塵埃等污染物。同時,半導(dǎo)體組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬和油墨字符、電磁碳膜和特殊標(biāo)簽等相當(dāng)脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料對清洗劑的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工藝解決方案,可在清洗芯片封裝基板的焊接殘留物和污垢的同時去除金屬界面高溫氧化膜,保障下一道工序的金屬界面結(jié)合強(qiáng)度;對芯片半導(dǎo)體基材、金屬材料擁有優(yōu)良的材料兼容性,清洗后易于用水漂洗干凈。

歡迎使用合明科技半水基清洗劑W3300!

以上便是芯片封裝基板清洗,封裝基板的主要結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)技術(shù)的介紹,希望可以幫到您!

 


Tips:

【閱讀提示】

以上為本公司一些經(jīng)驗的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時俱進(jìn),熟悉各種生產(chǎn)復(fù)雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。

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