半導(dǎo)體制造流程(七) - 測試
半導(dǎo)體制造流程(七) - 測試
半導(dǎo)體(semiconductor)指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛。從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。大部分的電子產(chǎn)品都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)聯(lián)。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等,硅是各種半導(dǎo)體材料應(yīng)用中最具有影響力的一種。
每個半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造都需要數(shù)百個工藝,整個制造過程分為八個步驟:晶圓加工 - 氧化 - 光刻 -刻蝕 - 薄膜沉積 - 互連 - 測試 - 封裝。今天小編給大家介紹的是半導(dǎo)體制造的第七個步驟:測試,希望能對大家有所幫助!
半導(dǎo)體制造第七步:測試
測試的主要目標(biāo)是檢驗半導(dǎo)體芯片的質(zhì)量是否達到一定標(biāo)準(zhǔn),從而消除不良產(chǎn)品、并提高芯片的可靠性。另外,經(jīng)測試有缺陷的產(chǎn)品不會進入封裝步驟,有助于節(jié)省成本和時間。電子管芯分選 (EDS) 就是一種針對晶圓的測試方法。
EDS 是一種檢驗晶圓狀態(tài)中各芯片的電氣特性并由此提升半導(dǎo)體良率的工藝。EDS可分為五步,具體如下:
一、電氣參數(shù)監(jiān)控 (EPM)
EPM 是半導(dǎo)體芯片測試的第一步。該步驟將對半導(dǎo)體集成電路需要用到的每個器件(包括晶體管、電容器和二極管)進行測試,確保其電氣參數(shù)達標(biāo)。EPM 的主要作用是提供測得的電氣特性數(shù)據(jù),這些數(shù)據(jù)將被用于提高半導(dǎo)體制造工藝的效率和產(chǎn)品性能(并非檢測不良產(chǎn)品)。
二、晶圓老化測試
半導(dǎo)體不良率來自兩個方面,即制造缺陷的比率(早期較高)和之后整個生命周期發(fā)生缺陷的比率。晶圓老化測試是指將晶圓置于一定的溫度和 AC/DC 電壓下進行測試,由此找出其中可能在早期發(fā)生缺陷的產(chǎn)品,也就是說通過發(fā)現(xiàn)潛在缺陷來提升最終產(chǎn)品的可靠性。
三、檢測
老化測試完成后就需要用探針卡將半導(dǎo)體芯片連接到測試裝置,之后就可以對晶圓進行溫度、速度和運動測試以檢驗相關(guān)半導(dǎo)體功能。具體測試步驟的說明請見表格。
四、修補
修補是最重要的測試步驟,因為某些不良芯片是可以修復(fù)的,只需替換掉其中存在問題的元件即可。
五、點墨
未能通過電氣測試的芯片已經(jīng)在之前幾個步驟中被分揀出來,但還需要加上標(biāo)記才能區(qū)分它們。過去我們需要用特殊墨水標(biāo)記有缺陷的芯片,保證它們用肉眼即可識別,如今則是由系統(tǒng)根據(jù)測試數(shù)據(jù)值自動進行分揀。
以上是關(guān)于半導(dǎo)體制造流程(七) - 測試的相關(guān)內(nèi)容,希望能您你有所幫助!
想要了解關(guān)于芯片半導(dǎo)體清洗的相關(guān)內(nèi)容,請訪問我們的“芯片半導(dǎo)體清洗”專題了解相關(guān)產(chǎn)品與應(yīng)用 !
合明科技是一家電子水基清洗劑 環(huán)保清洗劑生產(chǎn)制造商,其產(chǎn)品覆蓋電子加工過程整個領(lǐng)域。歡迎使用合明科技水基清洗劑產(chǎn)品!
【閱讀提示】
以上為本公司一些經(jīng)驗的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時俱進,熟悉各種生產(chǎn)復(fù)雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。
【免責(zé)聲明】
1. 以上文章內(nèi)容僅供讀者參閱,具體操作應(yīng)咨詢技術(shù)工程師等;
2. 內(nèi)容為作者個人觀點, 并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點和對其真實性負責(zé),本網(wǎng)站只提供參考并不構(gòu)成投資及應(yīng)用建議。本網(wǎng)站上部分文章為轉(zhuǎn)載,并不用于商業(yè)目的,如有涉及侵權(quán)等,請及時告知我們,我們會盡快處理;
3. 除了“轉(zhuǎn)載”之文章,本網(wǎng)站所刊原創(chuàng)內(nèi)容之著作權(quán)屬于合明科技網(wǎng)站所有,未經(jīng)本站之同意或授權(quán),任何人不得以任何形式重制、轉(zhuǎn)載、散布、引用、變更、播送或出版該內(nèi)容之全部或局部,亦不得有其他任何違反本站著作權(quán)之行為?!稗D(zhuǎn)載”的文章若要轉(zhuǎn)載,請先取得原文出處和作者的同意授權(quán);
4. 本網(wǎng)站擁有對此聲明的最終解釋權(quán)。