因為專業(yè)
所以領先
IC芯片封裝的發(fā)展始于20世紀50-60年代,這一時期被稱為晶體管外殼(TO)時代。1947年,美國電報電話公司(AT&T)貝爾實驗室的三位科學家巴丁、布賴頓和肖克萊發(fā)明了第一只晶體管,這標志著微電子封裝歷史的開始。在此期間,主要的封裝形式是以三根引線的TO型金屬玻璃封裝外殼為主,隨后又發(fā)展為陶瓷和塑料封裝的外殼。
進入20世紀70年代,IC芯片封裝進入了DIP(雙列直插式封裝)時代。1958年,科學家們成功研制了第一塊集成電路(IC),芯片上集成的I/O引腳也相應增加。隨著技術的進步和芯片集成度的提高,小規(guī)模IC(SSI)和中規(guī)模IC(MSI)相繼問世,相應的芯片上集成的I/O引腳數也從數個發(fā)展到數十個。原有的TO型封裝外殼已經無法適應I/O引腳數的發(fā)展需求,因此雙列直插式引線封裝(DIP)成為了70年代中、小規(guī)模封裝系列的主導產品。
20世紀80年代,IC芯片封裝進入了QFP(四方扁平封裝)和STM(表面貼裝技術)時代。為了滿足大規(guī)模(LSI)IC的封裝需求,研究人員開發(fā)了從單側和兩邊向四邊和底部引出腳過渡的芯片載體封裝,如無引線陶瓷芯片載體(LCCC)、塑料短引線芯片載體(PLCC)、四邊扁平引線封裝(QFP)和針柵陣列封裝(PGA)。
20世紀90年代,IC芯片封裝進入了BGA(球柵陣列封裝)和MCM(多芯片模塊)時代。隨著集成工藝技術的進步、設備的改進和深亞微米技術的使用(45-90nm),硅單芯片發(fā)展到了超大規(guī)模IC(VLSI),集成門為數百萬至數千萬個階段。為了滿足硅芯片發(fā)展的需要,在綜合QFP和PGA封裝優(yōu)點的基礎上,新一代電子封裝——球柵陣列封裝(BGA)應運而生。
進入21世紀,IC芯片封裝技術繼續(xù)快速發(fā)展。系統級封裝(SiP)、疊層封裝(PoP)、晶圓級封裝(WLP)、2.5DIC、3DIC、多芯片模塊(MCM)和3D系統級芯片(3DSoC)等新型封裝技術相繼出現。這些技術不僅提高了封裝的集成度,還實現了更高的性能和更低的功耗。
IC芯片封裝技術的發(fā)展歷程反映了半導體行業(yè)不斷創(chuàng)新和進步的趨勢。從最初的晶體管外殼到現在的多芯片模塊和3D系統級芯片,封裝技術不斷適應芯片集成度的提高和市場需求的變化。未來,隨著摩爾定律的持續(xù)影響和技術的進一步發(fā)展,我們可以期待更多創(chuàng)新的封裝技術出現,以滿足日益增長的計算能力和數據處理需求。
IC芯片封裝清洗劑W3805介紹
芯片封裝清洗劑W3805針對焊后殘留開發(fā)的具有創(chuàng)新型的無磷無氮 PH中性配方的濃縮型水基清洗劑。適用于SiP系統封裝清洗及清洗不同類型的電子組裝件上的焊劑、錫膏殘留。由于其PH中性,對敏感金屬和聚合物材料有極佳的材料兼容性。
芯片封裝清洗劑W3805的產品特點:
1、本品無磷、無氮、清洗能力好。
2、不燃不爆,使用安全,對環(huán)境友好。
3、材料安全環(huán)保,創(chuàng)造安全環(huán)保的作業(yè)環(huán)境,保障員工身心健康。
4、可極大提高工作效率,降低生產成本。
芯片封裝清洗劑W3805的適用工藝:
無磷無氮水基清洗劑W3805適用于噴淋清洗工藝。
芯片封裝清洗劑W3805產品應用:
W3805是創(chuàng)新型濃縮型水基清洗劑,清洗時可根據殘留物的清洗難易程度,用去離子水稀釋后再進行使用。
適用于SiP系統封裝清洗及清洗不同類型的電子組裝件上的焊劑、錫膏殘留。由于其 PH 中性,對敏感金屬和聚合物材料有極佳的材料兼容性。