因?yàn)閷I(yè)
所以領(lǐng)先
定義
半導(dǎo)體(semiconductor)指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。例如,常見的導(dǎo)體金、銀、銅、鐵等導(dǎo)電性良好,而像煤、人工晶體、琥珀、陶瓷等是導(dǎo)電性差的絕緣體,半導(dǎo)體則處于兩者之間。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等,其中硅在商業(yè)應(yīng)用上最具影響力。
特點(diǎn)
導(dǎo)電性可控制:半導(dǎo)體的導(dǎo)電性不是固定不變的,可以通過摻雜等方式來改變其電學(xué)性質(zhì)。例如,在硅中摻入少量的磷元素,會(huì)使硅變成N型半導(dǎo)體,電子為多數(shù)載流子,空穴為少數(shù)載流子;如果摻入硼元素,則變成P型半導(dǎo)體,空穴為多數(shù)載流子,電子為少數(shù)載流子。這種可控制的導(dǎo)電性使得半導(dǎo)體能夠用于制造各種電子器件,如二極管、晶體管等。
對(duì)溫度和光照敏感:半導(dǎo)體的電學(xué)性能會(huì)隨著溫度和光照等外界因素的變化而改變。例如,溫度升高時(shí),半導(dǎo)體的本征載流子濃度會(huì)增加,從而影響其導(dǎo)電性。某些半導(dǎo)體材料(如光敏電阻所使用的硫化鎘等)在光照下,其電阻會(huì)發(fā)生顯著變化,這一特性被廣泛應(yīng)用于光傳感器等器件的制造中。
多種物理效應(yīng):半導(dǎo)體具有多種特殊的物理效應(yīng),如光電效應(yīng)、壓阻效應(yīng)等。基于光電效應(yīng),可以制造出光電二極管、太陽能電池等器件;利用壓阻效應(yīng),可制造出壓敏電阻等用于壓力測(cè)量等方面的元件。
定義
集成電路(integrated circuit)是一種微型電子器件或部件。它采用一定的工藝,把一個(gè)電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,全部集成在一小塊或幾小塊半導(dǎo)體晶片或介質(zhì)基片上,然后封裝在一個(gè)管殼內(nèi),成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu)。例如,現(xiàn)代手機(jī)中的處理器芯片就是高度集成化的集成電路,內(nèi)部集成了數(shù)以億計(jì)的晶體管等元件,實(shí)現(xiàn)了數(shù)據(jù)處理、信號(hào)控制等多種功能。
特點(diǎn)
微型化:將眾多的電子元件集成到一小塊芯片上,大大縮小了電路的體積。以計(jì)算機(jī)芯片為例,早期的計(jì)算機(jī)使用分立元件,體積龐大,而現(xiàn)在的集成電路技術(shù)使得計(jì)算機(jī)芯片體積非常小,從而實(shí)現(xiàn)了電子設(shè)備的小型化。例如,英特爾酷睿系列處理器,其尺寸相對(duì)很小,但卻集成了大量的功能電路。
高可靠性:由于元件之間的連接是通過集成電路制造工藝在內(nèi)部完成的,減少了外部連接點(diǎn),從而降低了因連接不良等因素導(dǎo)致的故障概率。同時(shí),集成電路制造過程中的嚴(yán)格工藝控制也保證了其高可靠性。例如,航天設(shè)備中的集成電路需要在極端環(huán)境下工作,其高可靠性能夠確保航天任務(wù)的順利進(jìn)行。
低功耗:通過優(yōu)化電路設(shè)計(jì)和制造工藝,集成電路能夠在實(shí)現(xiàn)復(fù)雜功能的同時(shí)降低功耗。例如,移動(dòng)設(shè)備中的芯片為了延長(zhǎng)電池續(xù)航時(shí)間,需要具備低功耗的特性,集成電路技術(shù)使得這些芯片能夠在滿足性能要求的同時(shí)盡量減少能量消耗。
高性能:隨著集成電路技術(shù)的不斷發(fā)展,其集成度越來越高,運(yùn)算速度不斷提高,信號(hào)處理能力也不斷增強(qiáng)。例如,圖形處理單元(GPU)集成電路在處理圖像和視頻數(shù)據(jù)時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)高速、高效的運(yùn)算,滿足現(xiàn)代游戲、視頻編輯等對(duì)高性能圖形處理的需求。
定義
芯片(Chip),又稱微電路(microcircuit)、微芯片(microchip)、集成電路(integrated circuit,IC),是指內(nèi)含集成電路的硅片,體積很小,常常是計(jì)算機(jī)或其他電子設(shè)備的一部分。芯片是半導(dǎo)體元件產(chǎn)品的統(tǒng)稱,是集成電路(IC)的載體,由晶圓分割而成。例如,我們常見的手機(jī)芯片、電腦芯片等,它們都是以芯片的形式存在,內(nèi)部包含了復(fù)雜的集成電路。
特點(diǎn)
功能多樣性:芯片可以實(shí)現(xiàn)各種各樣的功能,從簡(jiǎn)單的邏輯控制到復(fù)雜的數(shù)據(jù)處理、通信、圖像處理等。例如,微控制器(MCU)芯片可以用于控制家電設(shè)備的運(yùn)行,而中央處理器(CPU)芯片則是計(jì)算機(jī)的核心部件,負(fù)責(zé)執(zhí)行各種指令和數(shù)據(jù)處理任務(wù)。
集成度高:芯片內(nèi)部集成了大量的集成電路和其他元件,以滿足不同的功能需求。隨著技術(shù)的發(fā)展,芯片的集成度不斷提高,能夠在更小的面積上實(shí)現(xiàn)更多的功能。例如,現(xiàn)代智能手機(jī)芯片集成了CPU、GPU、調(diào)制解調(diào)器等多個(gè)功能模塊。
標(biāo)準(zhǔn)化封裝:芯片通常采用標(biāo)準(zhǔn)化的封裝形式,便于在電子設(shè)備中進(jìn)行安裝和使用。常見的封裝形式有雙列直插式封裝(DIP)、球柵陣列封裝(BGA)等。這些封裝形式不僅保護(hù)了芯片內(nèi)部的電路,還提供了與外部電路連接的接口。
半導(dǎo)體
半導(dǎo)體是一類材料的統(tǒng)稱,包括硅、鍺、砷化鎵等多種材料。它涵蓋了更廣泛的概念領(lǐng)域,除了用于制造集成電路外,還用于制造分立器件(如單獨(dú)的二極管、晶體管等)、光電器件(如發(fā)光二極管、光電探測(cè)器等)和傳感器(如溫度傳感器、壓力傳感器等)等。例如,普通的發(fā)光二極管(LED)是一種光電器件,它是由半導(dǎo)體材料制成的,但它不是集成電路。在2018年全球半導(dǎo)體行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模為4607.63億美元,其中集成電路市場(chǎng)規(guī)模為3897.97億美元,這也說明半導(dǎo)體行業(yè)除了集成電路還有其他部分的市場(chǎng)份額,如分立器件、光電器件和傳感器等。
集成電路
集成電路是一種特定的電子器件,它是利用半導(dǎo)體材料的特性,將眾多的有源器件(如晶體管)和無源元件(如電阻、電容等)集成在半導(dǎo)體晶片或介質(zhì)基片上而形成的電路。它側(cè)重于電路的集成化設(shè)計(jì)和制造,是半導(dǎo)體技術(shù)在電路集成方面的具體應(yīng)用。例如,一個(gè)微處理器集成電路,它是將大量的晶體管、緩存、控制器等電路元件集成在一起,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)處理等功能,是一個(gè)高度復(fù)雜的電路集成體。
半導(dǎo)體
半導(dǎo)體材料本身的結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,從原子結(jié)構(gòu)層面來看,如硅是四價(jià)元素,其原子結(jié)構(gòu)決定了它的半導(dǎo)體特性。在實(shí)際應(yīng)用中,半導(dǎo)體材料可以是塊狀、片狀或薄膜狀等形式。例如,硅晶圓是一種常見的半導(dǎo)體材料形式,它是一片圓形的硅片,經(jīng)過切割、研磨等工藝處理后,可用于制造各種半導(dǎo)體器件。
集成電路
集成電路的結(jié)構(gòu)非常復(fù)雜,它包含了眾多不同類型的元件和多層布線。從物理結(jié)構(gòu)上看,它有多個(gè)層次,包括襯底層(通常是半導(dǎo)體材料如硅)、有源層(包含晶體管等有源器件)、金屬布線層(用于連接不同元件)、絕緣層等。例如,在一個(gè)現(xiàn)代的集成電路芯片中,可能有幾十層甚至上百層的結(jié)構(gòu),這些結(jié)構(gòu)共同構(gòu)成了一個(gè)完整的電路系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了如邏輯運(yùn)算、存儲(chǔ)、信號(hào)放大等各種功能。
半導(dǎo)體
半導(dǎo)體制造工藝主要側(cè)重于半導(dǎo)體材料的制備和基本特性的控制。例如,硅半導(dǎo)體材料的制造過程包括硅的提純、晶體生長(zhǎng)(如通過直拉法或區(qū)熔法生長(zhǎng)單晶硅)等過程。對(duì)于其他半導(dǎo)體材料如砷化鎵,其制造工藝又有不同的特點(diǎn),如需要特殊的生長(zhǎng)環(huán)境和工藝參數(shù)控制。在制造半導(dǎo)體材料的過程中,要嚴(yán)格控制雜質(zhì)含量,因?yàn)殡s質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體的電學(xué)性能有很大影響。
集成電路
集成電路制造工藝則是在半導(dǎo)體材料的基礎(chǔ)上,進(jìn)行更加復(fù)雜和精細(xì)的加工。它包括光刻、蝕刻、擴(kuò)散、離子注入、金屬化等多個(gè)工藝步驟。光刻工藝用于將電路圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶片上,蝕刻工藝用于去除不需要的材料,擴(kuò)散和離子注入用于改變半導(dǎo)體材料的電學(xué)性質(zhì)以形成晶體管等有源器件,金屬化工藝用于制作電路的連接布線。例如,在光刻工藝中,需要使用高精度的光刻機(jī),其分辨率能夠達(dá)到納米級(jí)別,以實(shí)現(xiàn)更小尺寸的電路元件制造。
芯片封裝清洗劑W3800介紹
芯片封裝清洗劑W3800是針對(duì)PCBA(印刷線路板組裝)焊后清洗開發(fā)的一款濃縮型環(huán)保水基清洗劑。主要用于清除電子組裝件PCBA、功率LED器件及引線框架型分立器件上的錫膏或者助焊劑殘留物。特別適用于助焊劑殘留較多且頑固的PCBA清洗,本品在材料兼容性方面表現(xiàn)優(yōu)越,適應(yīng)于超聲、噴淋等多種清洗工藝。
芯片封裝清洗劑W3800的產(chǎn)品特點(diǎn):
1、用去離子水按一定比例稀釋后不易起泡,可以應(yīng)用在在線和離線式噴淋清洗設(shè)備中。
2、清洗負(fù)載能力高,可過濾性好,具有超長(zhǎng)的使用壽命,維護(hù)成本低。
3、適用于具有高精、高密、高潔凈清洗要求的精密電子零件的清洗,適用于針對(duì)細(xì)間距和低底部間隙元器件的清洗應(yīng)用。
4、濃縮型產(chǎn)品應(yīng)用更寬廣,選擇不同的稀釋比例靈活清洗不同殘留。
5、對(duì)市場(chǎng)上大多數(shù)種類型的助焊劑和錫膏焊后殘留均具有良好的清洗效果。
芯片封裝清洗劑W3800的適用工藝:
W3800水基清洗劑適應(yīng)于超聲、噴淋等多種清洗工藝。
芯片封裝清洗劑W3800產(chǎn)品應(yīng)用:
芯片封裝清洗劑W3800在材料兼容性方面表現(xiàn)優(yōu)越,主要用于清除電子組裝件PCBA、功率LED器件及引線框架型分立器件上的錫膏或者助焊劑殘留物。特別適用于助焊劑殘留較多且頑固的PCBA清洗,清洗時(shí)可根據(jù)PCBA殘留物的狀態(tài),將本品按一定比例稀釋后再進(jìn)行使用,一般稀釋比例應(yīng)控制在 1:3~1:5。