使用半水基清洗劑清洗電子產(chǎn)品的優(yōu)缺點(diǎn)介紹
使用半水基清洗劑清洗電子產(chǎn)品的優(yōu)缺點(diǎn)介紹
電子產(chǎn)品的重要性和它對清洗質(zhì)量的要求:一般來說電子產(chǎn)品的重要性越高,它對清洗質(zhì)量的要求也越高,如用于人造衛(wèi)星、航天航空儀表、海底電信、軍用裝備、涉及生命的醫(yī)療設(shè)備的電子產(chǎn)品,要求有極高的可靠性,而生活類用品,一般性工業(yè)用品的可靠性要求就低得多。而電子產(chǎn)品使用的環(huán)境也有很大的關(guān)系,如經(jīng)常處于高溫、高濕等比較惡劣環(huán)境下的電子產(chǎn)品就必須嚴(yán)格清洗,并對其清洗后的離子污染和表面絕緣電阻必須嚴(yán)格控制,而對于在海洋環(huán)境中使用的軍艦、輪船上使用的電子設(shè)備,還應(yīng)進(jìn)行表面處理。根據(jù)我國的ANSI/J-STD-001B標(biāo)準(zhǔn)把電子產(chǎn)品分為三個(gè)等級(jí),其中等三類電子產(chǎn)品屬于必須清洗并且必須嚴(yán)格控制其清潔度的,對其離污染和表面絕緣電阻應(yīng)該逐批檢測,而第一類電子產(chǎn)品則可以免清洗,其清潔度應(yīng)該定期檢測。
一、半水基清洗劑
在半水基清洗劑的組分中一般都有有機(jī)溶劑和表面活性劑,如最早使用在印制電路板清洗的EC-7半水基清洗劑就是由萜烯類碳?xì)淙軇┡c表面活性劑組成的。在大多數(shù)半水基清洗劑的配方中還含有水,但由于水的含量水多(僅占5%-20%),所以從外觀看半水基溶劑與溶劑清洗劑一樣都是透明、均勻的溶液。與一般溶劑清洗劑不同的是半水基清洗劑使用的有機(jī)溶劑的沸點(diǎn)比較高,所以揮發(fā)性低不必像溶劑清洗劑那樣在封閉環(huán)境下進(jìn)行清洗,而且在清洗過程中不須經(jīng)常更換清洗劑只須適當(dāng)補(bǔ)充清洗劑量即可。配制清洗印制電路板用半水基清洗劑用的有機(jī)溶劑主要有萜烯類和石油類碳?xì)淙軇⒁叶济?、N-甲基吡咯烷西酮等,選擇溶劑類型時(shí)應(yīng)根據(jù)印制電路板、電子元器件等原材料的污染情況以及焊接時(shí)使用的助焊時(shí)類型等具體情況老虎。
二、半水基清洗工藝的優(yōu)缺點(diǎn)
半水基清洗工藝的優(yōu)點(diǎn)是:對各種焊接工藝有適應(yīng)性強(qiáng),所以使用半水清洗工藝不必改變原有的焊接工藝;它的清洗能力比較強(qiáng),能同時(shí)去除水溶性污垢和油污;與大多數(shù)金屬和塑料材料相容性好,與溶劑清洗劑相比不易揮發(fā)使用過程中蒸發(fā)損失小缺點(diǎn)是:存在與水基清洗一樣的需要使用純水漂洗、干燥難、廢水處理量大的問題。半水基清洗工藝需要占用較大的場地和空間,設(shè)備一次性投資較大特別是在線清洗機(jī)。由于半水基清洗劑含有較多的有機(jī)溶劑,所以要增加對有毒溶劑的防護(hù)、防火防爆等安全措施。而且半水基清洗劑不能像溶劑清洗劑那樣通過蒸餾回收再利用。
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以上為本公司一些經(jīng)驗(yàn)的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時(shí)俱進(jìn),熟悉各種生產(chǎn)復(fù)雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。
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